[1]
L. da S. Zambom, I. Y. Abe, N. Ordonez, R. C. Rangel, e R. D. Mansano, “Cristalização de filmes finos de silício amorfo depositados por RF magnetron sputtering após difusão de dopantes”, Rev. Principia, v. 62, maio 2025, doi: 10.18265/2447-9187a2022id8062.