Zambom L da S, Abe IY, Ordonez N, Rangel RC, Mansano RD. Cristalização de filmes finos de silício amorfo depositados por RF magnetron sputtering após difusão de dopantes. Rev. Principia [Internet]. 15º de janeiro de 2025 [citado 5º de fevereiro de 2025];62. Disponível em: https://periodicos.ifpb.edu.br/index.php/principia/article/view/8062