ZAMBOM, L. da S.; ABE, I. Y.; ORDONEZ, N.; RANGEL, R. C.; MANSANO, R. D. Cristalização de filmes finos de silício amorfo depositados por RF magnetron sputtering após difusão de dopantes. Revista Principia, [S. l.], v. 62, 2025. DOI: 10.18265/2447-9187a2022id8062. Disponível em: https://periodicos.ifpb.edu.br/index.php/principia/article/view/8062. Acesso em: 5 fev. 2025.